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罐体抛光机非球面超精密抛光技术
添加时间:2018-03-01
            罐体抛光机目前几种典型的非球面抛光方法均可实现面型精度亚微米级、表面粗糙度纳米级的超精密抛光。在加工面型精度方面,罐体抛光机以上几种加工方法均具有一个收敛且易于保持恒定的材料去除特性函数,均属于确定性抛光技术,在精确控制抛光工具运动及其驻留时间的基础上,均可实现抛光过程的精确控制及加工面型的预测(高速抛光时需要考虑气囊表面抛光布及磨粒射流喷嘴的磨损)。
           而在加工亚表面损伤方面,气囊抛光、磁流变抛光、射流抛光等抛光方式依靠磨粒的机械作用实现工件表层材料的塑性去除或水解层的去除,会在工件表面残留抛光颗粒等杂质,仍会导致轻微的亚表面损伤;而弹性发射加工、离子束加工及化学蒸发加工通过原子能结合、离子溅射及化学腐蚀等方式实现材料去除,可去除前道工序留下的亚表面损伤,实现无损伤的表面抛光(离子束加工会在表面留有微量离子杂质从而影响工件抗激光损伤阈值),其中等离子体化学蒸发加工技术在实现超精密无损伤加工的同时,还可达到较高的材料去除率,因此有望取代传统机械抛光方法,但其可加工材料范围较窄。
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