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罐体抛光机抛光后元件表面的面形精 度
添加时间:2018-09-06
           罐体抛光机机床精磨后的工件表面粗糙度在330nm左右,而抛光后的光学表面粗糙度要求在10nm以下,要求的去除量就很大,罐体抛光机因此首先必须对元件进行数控粗抛光加工。软件采用自主开发的应用程序这个最大去除量的取值为经验值。由于在整个抛光过程中,抛光头与工件的接触是一个适当的面积,而非单点接触,因此没有必要在二次抛光时每点的进给速度都按其与理想面的偏移量而给出不同的进给速度,同时抛光方式是旋转对称的,因此在实际程序的编制过程中,只需调入工件半口径的误差数据,根据实际经验将工件半口径范围内分成适当的几个单元,求出每一个单元内各点与理想面偏移量的平均值,然后根据这个平均值得到各单元不同的进给速度进行抛光反馈。如图7所示,曲线为测量得到的误差曲线,柱体的高度为每一单元的平均偏移量首先进行非球面数控铣磨成型。
         得到具有一定精度的非球面毛坯;第2步:以轮廓仪测量结果为指导,对非球面元件进行数控快速均匀粗抛光,实现对铣磨后的表面破坏层的去除和表面粗糙度的提高,得到稳定的面形精度一定的接触面积磨削被加工件。很显然,只有当抛光头距被抛光工件最边缘点大于接触区域半口径的点时,抛光头才以全接触区域抛光工件,因此本抛光机对在距工件最边缘点抛光接触区半口径以内的抛光区域的抛光效率是保持基本一致的。一个绕被加工件对称轴的左右摆动运动,以保证抛光头的旋转轴与抛光头和被加工零件的接触面的中点处的切线始终保持垂直。在整个表面除边缘处以外粗糙度基本一致。由此可知,在相同的时间内本抛光机对光学零件边缘处去除量较低,即抛光效率较低,而对边缘处以外的地方去除量基本一致,抛光效率较边缘处高。它由多种因素所决定,如抛光工件的材料、抛光模的运动方式、材料、几何结构、压力以及与抛光工件的接触面积、抛光磨削材料、浓度、甚至抛光环境温度、湿度等都对抛光效果有很大的影响。
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