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罐体抛光机抛光头动力提供及传动装置
添加时间:2018-12-14
             罐体抛光机抛光过程中机床运动形式对材料去除率的影响规律,从中可以看出在相同的加工条件下罐体抛光机弧形轨道式抛光机的材料去除率与材料去除的非均匀性均略微优于直线轨道式抛光机相差很少罐体抛光机因此在抛光机的结构方案设计中,优先考虑弧形轨道式抛光机,而最终采用何种运动形式还要综合比较抛光机机构实现的难易程度。机构运动形式抛光头实现自旋转运动及小幅弧型摆动,并能实现抛光头大幅弧型摆动从加工位到装卸位置,完成卸片动作。主运动为抛光盘旋转。驱动方式抛光头、抛光盘的旋转均由交流电机驱动,无级调速抛光头动压调整由抛光头气缸实现抛光头小幅弧型摆动由异步电机带动曲柄四杆机构实现大幅弧型摆动由气缸推动实现。抛光头摆动装置主要实现两个运动在抛光过程中,与抛光头的旋转运动同步进行的小幅度摆动,属于连续运动由装卸位到加工位,实现大幅度摆动,属间歇性运动。
           根据以上所要求实现的运动形式,并比较实现这一运动形式的多种机构,本方案采用曲柄四连杆机构与气缸组合的结构形式摆长对硅片表面材料去除率及材料去除非均匀性影响很小,可忽略不计,抛光头摆动长度可设计成不可调抛光头摆幅大小及摆动周期设计成可调式,以满足实验要求。摆幅大小可通过调节曲柄偏距及摇杆长度实现,摆动周期可通过控制电机转速来实现。气缸及电机型号的选择,根据抛光过程中所需要的最大摩擦力及最大正压力经计算选定。当气缸到摆动中心距离一定时,抛光头摆臂长度越大即抛光压力的力臂越长,气缸所需要提供的压力就越大,即气缸缸径就越大。抛光过程中的设计许用最大下力较大,为减小气缸尺寸需要增加气缸力臂,同时考虑到抛光头电机的安装问题,采用框架式结构。
 
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