服务热线:18853303000
网站公告:
欢迎访问淄博国轩机械,公司主要制作销售,罐体抛光机,封头抛光机,砂带封头抛光机,不锈钢罐体抛光机。
联系我们
18853303000
地址:
淄博市桓台县唐山镇政府驻地唐五村
邮箱:
858564385@qq.com
电话:
18853303000
Q Q:
858564385
行业新闻 news
罐体抛光机转速对运动轨迹的影响
添加时间:2018-01-30
            罐体抛光机在大多数情况下磨粒轨迹为较均匀的交叉网纹形态,且摆臂的中心角A、罐体抛光机研磨(抛光)盘的转速n0对切痕曲线的曲率影响大,摆臂摆幅对切痕曲线曲率的影响小。研磨(抛光)盘上每点相对于硅片的运动轨迹曲线的曲率半径应该避免曲率过小,以使单晶硅片的表面获得较高的研磨(抛光)质量,并且当摆臂中心角过小,或者当研磨(抛光)盘转速过小时,切痕的曲率很小,所以在研磨(抛光)过程中,不应该选择过小的摆臂中心角A及较低的研磨(抛光)盘转速单晶硅片表面的材料去除分布方程是描述晶片在进行化学机械抛光时表面材料平均去除率大小的最基本和最典型的模型之一。
            对于晶片表面随机点M的材料去除率MRR,方程描述为:中心处的相对摩擦长度分布大于外边界处,心部的材料去除率较大。由图5看出,当摆臂中心角较大时硅片的外边界的相对摩擦长度大于硅片的心部,外边界的材料去除率大于心部。摆臂中心角大约在25b~30b区域,相对摩擦长度分布较均匀,将获得更平坦的表面所显示的条件下,摆幅越大硅片外边界的相对摩擦长度下降的区域也越大,材料去除率较小,此时工件表面将出现中心凹下的形态。
上海快3 上海快三 上海快3 上海快3 上海快3 上海快三 上海快3 上海快三 上海快三 上海快三